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化合物半导体单晶生长
化合物半导体单晶(比如GaAs、InP等)的生长需要极其严格的环境,包括温度、原料纯度以及生长容器纯度等。PBN是目前化合物半导体单晶生长用最为理想的容器,无可替代。化合物半导体单晶生长方法目前主要有液封直拉法(LEC)和垂直梯度凝固法(VGF)等方法,对应的有博宇VGF和LEC系列坩埚产品。
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化合物半导体被称为第二代半导体材料,与第一代半导体材料相比,具有光学跃迁、电子饱和漂移速率高以及耐高温、抗辐射等特点,在超高速、超高频,低功率、低噪音几千和电路,特别是在光电子器件和光电储存方面占有独特的优势,其中最具有代表性的就是GaAs和InP等。
VGF 坩埚 LEC坩埚