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MBE坩埚
一．产品概述
分子束外延（MBE）法主要用于晶体的外延生长。
MBE坩埚在分子束外延（MBE）法中主要用作束源坩埚。
二．产品特点
纯度高达99.999%
分子束外延（MBE）法主要用于晶体的外延生长。
MBE坩埚在分子束外延（MBE）法中主要用作束源坩埚。
二．产品特点
纯度高达99.999%
高温下放气率极低
厚度均匀，加热一致性好
优异的热导率和抗热震性
易清洗和反复使用
易清洗和反复使用
化学惰性，在高温下与酸、碱不发生化学反应
- 规格说明
- 性能参数
- 产品应用
- 文档下载
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MBE equipment Specification Inner Diameter (mm) Lip Diameter (mm) Height (mm) Veeco 125cc 37 55 118 Veeco 500cc 100 130 160 Veeco 1700cc 130 160 290 Veeco 3700cc 180 210 300 Riber BN-100L 13 27 77 Riber BN-125L 20 32 89 Riber BN-135L 24 37 89 Riber 200cc 68 84 156 *此表为典型坩埚规格，如需其他规格尺寸，可以定制
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PBN性能参数表
Properties Units Values Density g/cm3 2.00-2.20 Tensile Strength MPa 58 Bending Strength MPa 101 Compression Strength MPa 244 Young's Modulus GPa 25 Poisson Ratio 0.25 Thermal Conductivity W/m°C "a" 92.1 "c" 2 Specific Heat J/g·℃ 0.96（RT） Resistivity Ω.cm "a"5×108, "c"5×1010 Dielectric Strength D.C. volts/mm 2x105 Dielectric Constant "c" 3.07 Metal Impurity Content ppm <10